应用领域：显示、传感等电子器件的精密制备、数字喷码、光刻胶喷涂等

       大面积功能薄膜制造是电子制造极为关键工艺之一，制备对象包括半导体光刻胶薄膜、平板显示玻璃涂层、有机封装层、金属薄膜、光电转换薄膜等，涉及显示、电子、能源等多个领域。喷雾制膜技术具有低温、非接触、高效率等优势，可用于大面积高效率薄膜制造，适用光刻胶、树脂、含氟聚合物、钙钛矿等，应用领域有半导体、显示玻璃、太阳能电池等。随着有机／无机墨水材料的快速发展，喷雾制膜设备需求呈逐年递增趋势，预计2022年市场规模达千亿元。

       现有超声喷雾技术产生雾滴较大（≥10pL) 、均匀性差，只能实现数十微米厚的光刻胶薄膜制造且表面平坦度低，容易产生凸点和凹坑，影响薄膜质量。随着市场对制备薄膜性能要求越来越高，超声喷雾工艺与装备技术也面临诸多技术挑战，尤其在微纳米级薄膜制备方面，需要产生fL 级的雾滴沉积，提高制造产能和良品率。

       “光刻胶薄膜电流体喷雾装备研发与应用”项目，开创了电流体喷雾制膜技术，可通过高压电场产生fL级雾滴，比现有超声雾滴小3-4个数量级，其制造薄膜膜厚极限达到50nm, 较超声喷雾极限小2个数量级，是目前最精密最理想的喷雾制膜技术，市场前景广阔。如邵阳彩虹集团迫切需要大面积高效率制备高质量微纳米级功能薄膜技术，用于在平板显示玻璃玻璃表面制造功能涂层，如钢化、增透、防指纹等，非常契合电流体喷雾制膜工艺能力。除此之外，电流体喷雾制膜技术在钙钛矿太阳能电池、医药喷雾输送等方面具有较大应用前景。

         目前该引进项目完成了首台电流体喷雾装备研发；多喷头喷雾方案，集成11个喷嘴；自主研发了可持续供墨系统。在随州某半导体材料厂完成了带料测试情况：成膜性好、效率高。技术指标：多轴运动精度  ±50um；喷印速度  ≥100mm/s；沉积薄膜面积   ≥0.5m×0.5m；成膜厚度 ≥50nm。